涉向中共洩芯片尖端技術 三星多名員工被起訴

韓國檢方10月27日對涉嫌將有關芯片的尖端技術「超純水系統」洩露到中國的9名前任及現任三星集團高管和職員進行了起訴。圖為2022年7月28日首爾瑞草區的三星總部。（Jung Yeon-Je / AFP）

【大紀元2022年11月01日訊】（大紀元專題部記者吳歡心綜合報導）10月27日，韓國檢方對9名前（現）任三星集團高管和職員提起訴訟，理由是他們涉嫌將有關「超純水系統」的芯片尖端技術洩露給中國。

韓國檢方對與超純水系統有關的A某等6人進行了拘留起訴，對起訴的另外3人沒有拘留。據韓國檢方透露，在三星集團子公司負責半導體相關業務的A某涉嫌在2018年8月準備跳槽到中國半導體諮詢企業時，從三星工程職員那裡得到超純水系統操作手冊和設計圖紙等核心技術資料，並將其洩露出去。

超純水是將水中離子、有機物、微生物等各種雜質去除到10萬億分之1單位以下的接近純水的水，用於半導體工程所需的各種清洗工作。如果水中有雜質，就會產生不良產品，因此穩定供應超純水對半導體收率有很大的影響。三星電子從2006年開始每年投資300多億韓元（約2100萬美元）開發超純水系統。

曾是三星超純水系統施工轉包企業的B公司一位高管通過三星工程研究員們，非法使用了三星另一個尖端技術「設計模板」後，製作了該技術說明資料，並交給了A某。

另外，檢察機關還同時拘留起訴了在三星電子工作的研究員C某，他涉嫌向海外競爭企業Intel洩露包含晶圓代工半導體核心技術文件。準備跳槽到Intel的C某，利用在家辦公的機會，在居住地閱覽有關半導體技術資料後，拍攝並竊取相關資料。

韓國三星是最常被竊取技術的企業之一。今年5月，韓國檢方逮捕還起訴了三星電子的子公司SEMES的兩名前研究員和另外兩名合作公司的員工，他們被指控洩露了是「超臨界清洗設備」技術。該技術利用處於液態和氣態之間的超臨界二氧化碳清洗半導體基板，該技術可以最大限度地減少對器材的損耗，降低超微半導體的次品率。「超臨界清洗設備」被認為是三星尖端半導體技術的關鍵。

據韓國大檢察廳透露，從2017年到今年9月，韓國產業技術海外洩露件數共達112件。從企業規模來看，中小企業有68件，大企業有35件；從領域來看，最多的是與顯示器（26件）和半導體（24件）有關。

結果顯示，韓國產業因技術洩露造成的年損失規模約為56.2萬億韓元（約400億美元）。這相當於韓國2021年GDP的2.7%，以及2020年韓國總研究開發費的60.4%。

韓國檢方對9名三星集團高管和職員們進行起訴的當天，韓國全國經濟人聯合會發表了「韓國尖端技術保護水平的意見調查結果」，調查對象為以技術企業負責人和大學教授等26名產業界和學術界的保安專家。

韓國全國經濟人聯合會產業本部長劉煥益（Yoo Hwan-ik）表示，韓國作為包括半導體在內的尖端技術競爭力較高的國家，核心技術和人力流失的危險很大，為了讓技術和無形資產得到安全保護，「應該提高全社會的警覺心，並從制度上完善」。

韓國在6月瑞士國際經營開發研究生院（IMD）公布的國家競爭力排名中，於2022年「科學基礎設施」領域在世界63個國家中排名第三，但在「知識產權保護程度」方面僅排在第37位。

責任編輯：連書華